- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：成都
本設備主要用于半導體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
本設備可根據(jù)客戶技術需求，定制研發(fā)生產(chǎn)，具體詳情請電聯(lián)我司。
四川超邁智能裝備有限公司
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