CDNY-03AM 光學膜層厚度測量控制儀
CDNY-03AM是專為光學鍍膜設計的新一代光學膜層厚度測量控制儀。本儀器由于采用窄帶頻率技術，因而對信號諧波和直流漂移具有強的抑制能力。
主要性能指標及技術指標
主信號通道：
信號輸入方式：單端交流輸入
輸入量程：0.5mV-500mV
信號頻率范圍：1KHz&plun;5％
本機頻相噪聲：≤4nV／Hz（折合到輸入端）
性誤差：≤0.1％
點時源：≤0.2％／h
參考信號通道：
信號輸入方式：單端交流輸入
輸入幅度：20-700mV
頻率范圍：≥320.
CDNY-03AM是專為光學鍍膜設計的新一代光學膜層厚度測量控制儀。本儀器由于采用窄帶頻率技術，因而對信號諧波和直流漂移具有強的抑制能力。
主要性能指標及技術指標
主信號通道：
信號輸入方式：單端交流輸入
輸入量程：0.5mV-500mV
信號頻率范圍：1KHz&plun;5％
本機頻相噪聲：≤4nV／Hz（折合到輸入端）
性誤差：≤0.1％
點時源：≤0.2％／h
參考信號通道：
信號輸入方式：單端交流輸入
輸入幅度：20-700mV
頻率范圍：≥320.
