200ml還原裝置，50ml循環(huán)氧化實驗裝置，300ml氧化還原實驗裝置。
其他說明
| 200ml還原裝置 |
型號:SR-20030 催化劑裝填量:200ml 設(shè)計還原溫度: ≤ 700&plun; 0.5~1℃ 使用溫度:400-500℃ 設(shè)計還原壓力:≤ 2MPa 使用壓力:0.5MPa 氣體:3路 控制方式; 儀表控制 |
| 50ml循環(huán)氧化實驗裝置 |
型號:SR-L05011 催化劑裝量: ≤ 50克 反應(yīng)壓力:常壓 反應(yīng)溫度:≯1000℃ 汽化水量:≤ 15g/min 液體原料:1路 氣體原料:1路 |
| 300ml氧化還原實驗裝置 |
型號:SR-L30030 催化劑裝量:300ml(MAX) 反應(yīng)爐溫度:≤ 600℃ 反應(yīng)壓力:0-1.6MPa 空氣進料量:0-600L/h 氮氣進料量:0-600L/h H2進料量:0-100L/h 控制方式:儀表控制 |
