直讀光譜儀曝光時(shí)間的確定,主要取決于激發(fā)樣品中元素分析的再現(xiàn)性好壞。曝光過程是直讀光譜儀光電流向積分電容中充電(也稱積分)過程。積分的結(jié)果可認(rèn)為是取光電流的平均值,所以積分時(shí)間不要過短。為了分析,使火花放電的總次數(shù)在2000--3000次左右。使鐵和分析元素的光強(qiáng)值和比值比較適中。在正常分析時(shí),曝光時(shí)間一般采用3—5秒。但須指出,直讀光譜儀曝光時(shí)間長短與光源的能量大小有關(guān)。
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