我公司為了滿足國(guó)內(nèi)電子行業(yè)中大量應(yīng)用酸蝕刻技術(shù)加工各種硅晶片、液晶顯示器鋁鍍膜、鋁電箔等電子產(chǎn)品的要求，研制開發(fā)出了凈高純化學(xué)試劑的精餾裝置。
　　
　　酸蝕刻技術(shù)對(duì)化學(xué)試劑的純凈度有著高的要求，達(dá)不到要求的化學(xué)試劑中的某些特定離子濃度導(dǎo)致電子產(chǎn)品被污染而報(bào)廢，這就需要提供高純潔凈度的化學(xué)試劑來(lái)滿足電子行業(yè)的需要。
　　
　　我公司具有二十多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，為國(guó)內(nèi)眾多高純?cè)噭┥a(chǎn)企業(yè)提供了多種產(chǎn)品的精餾裝置，生產(chǎn)出的高純化學(xué)試劑產(chǎn)品質(zhì)量了SEMI-C7、C8、C12標(biāo)準(zhǔn)。
　　
　　目前，我公司的凈高純化學(xué)試劑精餾裝置二十多個(gè)品種、一型號(hào)規(guī)格，是國(guó)內(nèi)能夠提供大型、多品種高純?cè)噭┚s裝置的生產(chǎn)企業(yè)。
　　　　
　　我公司研制開發(fā)的電子工業(yè)凈高純化學(xué)試劑（、鹽酸、硝酸等）精餾裝置技術(shù)參數(shù)與特性：
　　
　　1、生產(chǎn)裝置規(guī)模：1000——5000噸/a（單一品種可按用戶要求設(shè)計(jì)）；
　　
　　2、生產(chǎn)裝置高度：4——6米（不同品種，高度不一）；
　　
　　3、產(chǎn)品質(zhì)量：控制0.3um顆粒，單項(xiàng)金屬元素1ppb以下；
　　
　　4、裝置結(jié)構(gòu)特性：塔內(nèi)裝有氣、液分布與再分布器；
　　
　　5、運(yùn)轉(zhuǎn)方式：連續(xù)性生產(chǎn)；
　　
　　6、技術(shù)特性：型生產(chǎn)裝置。