測(cè)量工作臺(tái)讀數(shù)裝置主要規(guī)格
X軸遇到測(cè)量范圍50nm
Y軸遇到測(cè)量范圍13nm
測(cè)量器分度值：0.01nm
測(cè)量臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)范圍不限： limit
測(cè)量臺(tái)刻度盤分度范圍：0°～360°
測(cè)量臺(tái)刻度盤之分度值：1°
測(cè)量臺(tái)刻度盤游標(biāo)讀數(shù)示值：6’
測(cè)量：
儀器示值誤差：± （4+L/15）μ m
儀器示值誤差：包括測(cè)量誤差和系統(tǒng)誤差
注：測(cè)量地點(diǎn)溫度變化20℃ ±3℃，L--被測(cè)件長(zhǎng)度
X軸遇到測(cè)量范圍50nm
Y軸遇到測(cè)量范圍13nm
測(cè)量器分度值：0.01nm
測(cè)量臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)范圍不限： limit
測(cè)量臺(tái)刻度盤分度范圍：0°～360°
測(cè)量臺(tái)刻度盤之分度值：1°
測(cè)量臺(tái)刻度盤游標(biāo)讀數(shù)示值：6’
測(cè)量：
儀器示值誤差：± （4+L/15）μ m
儀器示值誤差：包括測(cè)量誤差和系統(tǒng)誤差
注：測(cè)量地點(diǎn)溫度變化20℃ ±3℃，L--被測(cè)件長(zhǎng)度
