納米銀抗菌特種涂料高速研磨分散機(jī)，納米涂料分散技術(shù)，分散均勻穩(wěn)定涂料分散機(jī)，研磨間隙可調(diào)式高速分散機(jī)，高速在線研磨分散機(jī)，納米研磨分散機(jī)

眾所周知納米氧化物易產(chǎn)生自身的團(tuán)聚，使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外，納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮，還取決于大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此，納米氧化物粉體必須均勻分散，充分打開其團(tuán)聚體，才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。

分散方式

涂料中粉體(含納米材料)的分散主要是靠剪切力的作用。納米材料在涂料體系中的分散，一般是采用下述分散方法來達(dá)到分散效果。

三輥機(jī)/多輥機(jī)研磨分散:利用三輥機(jī)或多輥機(jī)的輥與輥速度的不同，將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝，二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn)，部分研磨料進(jìn)入加料縫并受到強(qiáng)大的剪切作用，通過加料縫，研磨料被分為兩部分，一部分附加在加料輥上回到加料溝，另一部分由中輥帶到中輥和輥之間的刮漆縫，在此又一次受到更強(qiáng)大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫，研磨料又分成兩部分，一部分由輥帶到刮刀處，落入刮漆盤，另一部分再回到加料溝，如此經(jīng)幾次循環(huán)，可達(dá)到分散的目的。但用三輥機(jī)或多輥機(jī)進(jìn)行處理效率低，能耗高，滿足不了大生產(chǎn)的需求。

球磨分散:通過球磨機(jī)中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用，使接觸鋼球的粉體粒子被撞

碎或磨碎，同時(shí)使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動(dòng)混合作用而被均勻地分散。砂磨分散:砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細(xì)的珠或砂。砂磨機(jī)可連續(xù)進(jìn)料，納米粉體的預(yù)混合漿通過圓筒時(shí)，在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用，使得納米氧化物能很好地分散在涂料中，分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩，溢流排出，出口篩可擋住砂粒，并使其回到筒中。通過球磨機(jī)和砂磨機(jī)分散能取得較好的分散效果及物料細(xì)度，但球磨機(jī)和砂磨機(jī)同樣無法避免處理效率低，能耗高的缺點(diǎn)。

高剪切分散機(jī):高剪切分散機(jī)的核心部件是定子/轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來強(qiáng)勁的動(dòng)能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝的條件下，瞬間均勻精細(xì)地分散，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù)，20終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。與三輥機(jī)、球磨機(jī)、砂磨機(jī)相比，高剪切分散機(jī)具高、能耗低等顯著優(yōu)點(diǎn)，是分散工藝的選。

國(guó)產(chǎn)分散機(jī)，由于加工設(shè)備和制造工藝上的弱勢(shì)，設(shè)備剪切力較弱，且轉(zhuǎn)速較低只有3000轉(zhuǎn)，不能滿足市場(chǎng)要求。

Ikn機(jī)械設(shè)備有限公司，憑借著德國(guó)的技術(shù)，研發(fā)出的高剪切研磨分散機(jī)有效地解決了客戶的痛點(diǎn)，協(xié)助客戶開發(fā)新產(chǎn)品市場(chǎng)。Ikn高剪切分散機(jī)在這方面有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)，剪切速率可以超過14000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。CMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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