CMP拋光液高剪切在線式膠體磨，化學機械拋光高剪切均質(zhì)機，CMP拋光漿料納米級研磨分散機，超細粉體研磨機,超細粉體研磨設備,納米粉體研磨機,超細粉體研磨機,超細粉體高速剪切研磨機,納米研磨機

CMP漿料通常由分散在化學反應溶液中的納米級研磨粉組成。 在化學蝕刻軟化材料的同時，機械研磨能去除材料，從而使形貌特征和表面都變平坦。 僅使用化學蝕刻會產(chǎn)生各向同性的結果，但不會使表面形貌變平坦，而只使用機械研磨則會使表面變平坦，但會產(chǎn)生表面缺陷。 正確設計的CMP流程則可以在不產(chǎn)生表面缺陷的情況下實現(xiàn)平坦性。 研磨顆粒的粒度分布是CMP漿料中的關鍵設計參數(shù)，會影響材料去除率和表面缺陷率等關鍵指標。

超細粉體的分散是基礎研究領域和工業(yè)技術部門普遍遇到的課題,其應用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。

分散技術不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不可缺少,而且是十分重要的技術手段。

但是由于超細粉體粒度小,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強烈的聚團特性,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,聚團的結果導致超細粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面,在復合材料的制備過程中,由于超細粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異,超細粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復合材料,是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。

所以為了解決這一問題,各種類型的分散設備應運而生,粉體的分散、混合與均化在粉體技術中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散,盡力使團聚粉體達到單粉體分散;其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時需要性能均一的粉體材料,為了消除各部分性能上的差異,需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理;其三是,有些粉體材料需要進行改性處理,為了保證改性處理的均一性,也需要進行分散、混合與均化處理。

超細研磨機,CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉速和靈活可調(diào)的定轉子間隙外,CM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用先進幾何機構的研磨定轉子,更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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高剪切研磨機運行原理:

高剪切研磨機在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下,將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細,同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

IKN研磨機結構:

三道磨碎區(qū):一級為粗磨碎區(qū),二級為細磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結構:溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

型號 流量L/H 轉速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN
CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
CMD 2000/10 3000 4,200 23 22 DN80/DN65
CMD 2000/20 8000 2,850 23 37 DN80/DN65
CMD 2000/30 20000 1,420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 60000 1,100 23 110 DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

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