CMP拋光漿料納米級研磨分散機(jī)，化學(xué)機(jī)械拋光高剪切均質(zhì)機(jī)，CMP拋光液高剪切在線式分散機(jī)，超細(xì)粉體研磨機(jī),超細(xì)粉體研磨設(shè)備,納米粉體研磨機(jī),超細(xì)粉體研磨機(jī),超細(xì)粉體高速剪切研磨機(jī),納米研磨機(jī)

CMP漿料通常由分散在化學(xué)反應(yīng)溶液中的納米級研磨粉組成。 在化學(xué)蝕刻軟化材料的同時(shí)，機(jī)械研磨能去除材料，從而使形貌特征和表面都變平坦。 僅使用化學(xué)蝕刻會產(chǎn)生各向同性的結(jié)果，但不會使表面形貌變平坦，而只使用機(jī)械研磨則會使表面變平坦，但會產(chǎn)生表面缺陷。 正確設(shè)計(jì)的CMP流程則可以在不產(chǎn)生表面缺陷的情況下實(shí)現(xiàn)平坦性。 研磨顆粒的粒度分布是CMP漿料中的關(guān)鍵設(shè)計(jì)參數(shù)，會影響材料去除率和表面缺陷率等關(guān)鍵指標(biāo)。

超細(xì)粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題,其應(yīng)用日益廣泛,如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。

分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不可缺少,而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于超細(xì)粉體粒度小,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致超細(xì)粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面,在復(fù)合材料的制備過程中,由于超細(xì)粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異,超細(xì)粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料,是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。

所以為了解決這一問題,各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生,粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個(gè)目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散,盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散;其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時(shí)需要性能均一的粉體材料,為了消除各部分性能上的差異,需要對粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理;其三是,有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理,為了保證改性處理的均一性,也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。

超細(xì)研磨機(jī),CM2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,CM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用先進(jìn)幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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高剪切研磨機(jī)運(yùn)行原理:

高剪切研磨機(jī)在電動機(jī)的高速轉(zhuǎn)動下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動和離心力的作用下,將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細(xì),同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的zui小細(xì)度可達(dá)0.5um。

IKN研磨機(jī)結(jié)構(gòu):

三道磨碎區(qū):一級為粗磨碎區(qū),二級為細(xì)磨碎區(qū),三級為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

型號 流量L/H 轉(zhuǎn)速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN
CMD 2000/4 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
CMD 2000/5 1000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
CMD 2000/10 3000 4,200 23 22 DN80/DN65
CMD 2000/20 8000 2,850 23 37 DN80/DN65
CMD 2000/30 20000 1,420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 60000 1,100 23 110 DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

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