二氧化硅納米級研磨分散機(jī)，管線式納米二氧化硅研磨分散機(jī)，IKN進(jìn)口膠體磨，納米級研磨分散機(jī)，立式膠體磨，多功能納米級研磨分散機(jī)，高剪切膠體磨

納米二氧化硅是一種無機(jī)化工材料，俗稱白炭黑。由于是超細(xì)納米級，尺寸范圍在1~100nm，因此具有許多特的性質(zhì)，如具有對抗紫外線的光學(xué)性能，能提高其他材料、強(qiáng)度和耐化學(xué)性能。用途非常廣泛。納米級二氧化硅為無定形白色粉末，無味、，微結(jié)構(gòu)為球形，呈絮狀和網(wǎng)狀的準(zhǔn)顆粒結(jié)構(gòu)，分子式和結(jié)構(gòu)式為SiO2，不溶于水。

制作方法

（1）物理法

物理法一般指機(jī)械粉碎法。利用超級氣流粉碎機(jī)或高能球磨機(jī)將SiO2的聚集體粉碎可獲得粒徑1～5微米的超細(xì)產(chǎn)品。該法工藝簡單但易帶入雜質(zhì).粉料特性難以控制，制備效率低且粒徑分布較寬。

（2）化學(xué)法

化學(xué)法可制得純凈且粒徑分布均勻的超細(xì)SiO2顆粒?；瘜W(xué)法包括化學(xué)氣相沉積(CVD)法、液相法、離子交換法、沉淀法和溶膠凝膠(Sol-Gel)法等，主要的生產(chǎn)方法還是以四氯化硅為原料的氣相法，以硅酸鈉和無機(jī)酸為原料的沉淀法和以硅酸醋等為原料的溶膠凝膠法。

高剪切均質(zhì)分散機(jī)是gao效、kuai速、均勻地將一個相或多個相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度da到微米數(shù)量級時，甚至納米級時，體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子gao速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液。高剪切分散機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下，shun間均勻精細(xì)的分散均質(zhì)，經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機(jī)的循環(huán)往復(fù)，#終得到穩(wěn)定的gao品zhi產(chǎn)品。

   高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得chao細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000chao gao速分散機(jī)。其剪切速率可以chao過14000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)，粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji高,無需其他輔助分散設(shè)備。

速均質(zhì)分散機(jī)設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

速均質(zhì)分散機(jī)電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、氣動馬達(dá)

速均質(zhì)分散機(jī)電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

速均質(zhì)分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti

速均質(zhì)分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理

速均質(zhì)分散機(jī)進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

支持售前試機(jī)，地址：上海市松江區(qū)信頤科技產(chǎn)業(yè)園

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