活性氫氧化鎂在線高速研磨分散機 

是指通過特殊的工藝對氫氧化鎂微粒表面進行活化處理，以使其能夠很好的與各種塑料橡膠相容，發(fā)揮出其優(yōu)異的阻燃性能。

氫氧化鎂是現(xiàn)代應用的*廣泛的水合金屬氧化物阻燃劑，另外一種是氫氧化鋁。之所以氫氧化鎂能夠得到廣泛應用是因為這種水合金屬氧化物不產(chǎn)生二次污染，熱穩(wěn)定性能很好，并且同其他阻燃劑的協(xié)同效果好，無毒，無腐蝕，不揮發(fā)，不產(chǎn)生毒氣，價格低廉，來源廣泛。已經(jīng)被人們譽為無公害阻燃劑。同時，氫氧化鎂也是集阻燃、抑煙、填充三大功能為一體的阻燃劑。氫氧化鎂阻燃劑的阻燃機理在于氫氧化鎂的分解溫度為340℃到490℃；分解后發(fā)生脫水反應，可以吸收材料表面的熱量，當材料表面的熱量被大量吸收后便可降低材料燃燒的表面溫度，從而達到阻燃的效果。氫氧化鎂在脫水后產(chǎn)生的大量水蒸氣可以有效的稀釋可燃氣體濃度，降低可燃氣體的助燃效果。氫氧化鎂分解而產(chǎn)生的殘余物氧化鎂是致密的氧化物，它可以沉積于塑料表面，**可燃氣體的產(chǎn)生，起到隔熱、隔絕氧氣的作用，并且達到抑煙的效果。氫氧化鎂還可以促進塑料表面炭化，隔絕氧氣與塑料接觸。以上時氫氧化鎂作為阻燃劑的各項優(yōu)勢，但是在實際應用中，氫氧化鎂作為阻燃劑又有其缺點，比如，氫氧化鎂耐酸性能力差；在制品中要添加大量氫氧化鎂才能達到很好的阻燃作用，這樣便使得制品其他方面如力學性能、電學性能降低；并且氫氧化鎂與塑料的相容性變差；還容易產(chǎn)生滴落現(xiàn)象；提高加工難度。因此，人們?yōu)榱私鉀Q這些問題而在實際中應用到氫氧化鎂優(yōu)異的阻燃效果，便出現(xiàn)了對氫氧化鎂進行表面處理的理論和工藝（也叫做對氫氧化鎂進行改性處理、或者是對氫氧化鎂進行活化處理），這樣就使得氫氧化鎂在工業(yè)中得到了廣泛的應用。

上海IKN技術，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結構，**的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

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