醋酸丁酸纖維素實驗室在線高剪切研磨分散機
用于制作高透明度、耐候性好的塑料片基、薄膜和各種涂料的流平劑、成膜物質等。丁?;吭黾觿t使其密度降低,溶解范圍擴大。含乙?;?2/~15/,丁?;?6/~29/。透明或不透明粒料,質堅韌,耐候及耐寒性好。

物理化學性質
用于制作高透明度、耐候性好的塑料片基、薄膜和各種涂料的流平劑、成膜物質等。CAB的分子中除羥基、乙?;膺€含有丁酰基,其性能與三種基團的含量有關。熔點和拉伸強度隨乙?;吭龈叨兇?,與增塑劑的相容性和薄膜的柔性在一定范圍內隨乙?;拷档投黾?。羥基含量增加促進其在*性溶劑中的溶解度。丁?;吭黾觿t使其密度降低,溶解范圍擴大。含乙酰基12/~15/,丁?;?6/~29/。透明或不透明粒料,質堅韌,耐候及耐寒性好。熔融溫度140℃。密度1.15~1.22g/cm3。拉伸強度14~52MPa,彎曲模量621~2070MPa,懸臂梁缺口沖擊強度53~580J/m,洛氏硬度R31~116。熱變形溫度45~94℃。
CMD2000研磨機為立式分體結構,**的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第*級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000研磨機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10

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