IKN無機(jī)沉淀劑高速納米分散機(jī)，生產(chǎn)廠家

無機(jī)沉淀劑

無機(jī)沉淀劑與金屬離子作用，通常主要形成氫氧化物沉淀和硫化物沉淀。

1．形成氫氧化物沉淀 利用生成氫氧化物沉淀進(jìn)行分離，是生產(chǎn)上及分析工作中應(yīng)用廣泛的分離方法之一。很多金屬離子能與NaOH生成氫氧化物沉淀。如Fe(OH)3、Mg(OH)2等。某些非金屬元素和某些略帶酸性的金屬元

素如硅、鎢、鈮、鉭等，在一定條件下，常以水合氧化物形式沉淀析出，例如SiO2·nH2O、WO3·nH2O、Nb2O5·nH2O、Ta2O5·nH2O等，這些水合氧化物，其實(shí)就是它們難溶的含氧酸，即硅酸、鎢酸、鈮酸、鉭酸等。

2．形成硫化物沉淀大約有40多種金屬離子可以生成硫化物沉淀，而且各種硫化物的溶解度相差懸殊，因而可通過控制溶液中S2- 離子的濃度以使硫化物沉淀分離。在定量分析中，硫化物沉淀法主要用來分離除去某些重金屬離子。

此外，還有一些沉淀為硫酸鹽、磷酸鹽、草酸鹽和碳酸鹽的沉淀分離方法。

ERX2000采取直立式設(shè)計(jì)，使物料可以全部進(jìn)入分散腔，符合工藝要求和流體力學(xué)要求，增加其工作效率，***低處出口的出料設(shè)計(jì)符合生產(chǎn)要求，垂直的壓力使得該機(jī)器工作更加穩(wěn)定，同時(shí)便于清潔。充分考慮FDA和EHEDG的標(biāo)準(zhǔn)，ERX2000與物料接觸的材料根據(jù)生產(chǎn)要求使用SS316鋼或更加耐酸堿的哈氏合金，**增強(qiáng)其耐磨損和耐腐蝕的特性，杜絕設(shè)備與物料產(chǎn)生物理和化學(xué)變化而形成污染。采用了三層結(jié)構(gòu)卡匣式的機(jī)械密封設(shè)計(jì)，可以快速安裝，可靠性能高，適合制藥工業(yè)。根據(jù)制藥規(guī)范要求，對分散腔和出料口進(jìn)行表面處理，**的表面處理質(zhì)量和無死角設(shè)計(jì)便于清洗，符合CIP及SIP的清潔標(biāo)準(zhǔn)。

IKN分散機(jī)特點(diǎn)：

  1、處理量大，適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)

2、粒徑分布范圍窄，分散效果佳

3、省時(shí)、**、節(jié)約能耗

4、噪音低，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)

5、消除批次間生產(chǎn)的品質(zhì)差異

6、無死角，物料100/通過分散剪切

7、水循環(huán)機(jī)械密封，密封效能好;

8、物料接觸面采用316L不銹鋼，拋光處理，達(dá)到GMP標(biāo)準(zhǔn);

9、具有短距離、低揚(yáng)程輸送功能

10、使用簡單，維修方便。

IKN分散機(jī)工作優(yōu)勢：

1 強(qiáng)勁的離心力將物料從徑向甩入定、轉(zhuǎn)子之間狹窄**的間隙中，同時(shí)受到離心擠壓、液層摩擦、液力撞擊等綜合作用力，物料被初步分散。

2 分散機(jī)高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子產(chǎn)生至少15m/s以上的線速度，物料在強(qiáng)烈的液力剪切、液層磨擦、撕裂碰撞等作用下被充分分散破碎，同時(shí)通過定子槽高速射出。

3 分散機(jī)物料不斷地從徑向高速射出，在物料本身和容器壁的阻力下改變流向，與此同時(shí)在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下，又形成上、下兩股強(qiáng)烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán)，*終完成分散過程。

IKN無機(jī)沉淀劑高速納米分散機(jī)，無機(jī)沉淀劑高速納米分散機(jī)，高速納米分散機(jī)