NA MASTER(那諾-馬斯特)提供的ALD系統(tǒng)可沉積陷的薄膜，是高介電常數(shù)材料的理想選擇，主要型號(hào)包含NLD-3500，NLD-4000。此外，我們可以提供的等離子增強(qiáng)ALD的產(chǎn)線解決方案。

原子層沉積系統(tǒng)

        原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會(huì)帶來(lái)非統(tǒng)計(jì)的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無(wú)孔的特性，可以提供卓越的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實(shí)現(xiàn)到大基片上。

        NA-MASTER(那諾-馬斯特)NLD-4000是一款的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級(jí)控制的用戶授權(quán)保護(hù)功能。系統(tǒng)為全自動(dòng)的互鎖設(shè)計(jì)，并提供了強(qiáng)大的靈，可以用于沉積多種薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導(dǎo)體、光伏、MEMS等。NLD-4000系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋，方便腔體的訪問(wèn)和清潔。該系統(tǒng)擁有一個(gè)載氣艙包含多達(dá)7個(gè)50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物，同時(shí)帶有N2或者Ar作為運(yùn)載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

        NLD-4000系統(tǒng)的選配項(xiàng)包含自動(dòng)L/UL上(用于6”基片)，ICP離子源(用于等離子增強(qiáng)的PEALD)，臭氧發(fā)生器，等等。

NLD-4000在6”晶圓片上的均勻性數(shù)據(jù)：

 周期：100個(gè)周期(TMA + H2O)

 均勻度：0.36%

 溫度：200°C

 折射率：1.68

周期：300個(gè)周期（TMA + H2O）

均勻度：0.27%

溫度：200°C

折射率：1.67