高壓樣品盤（24-150巴）

　　這種樣品盤在試驗全過程中均將樣品包裹在一個密封的環(huán)境中。密封裝置可抑制溶劑蒸發(fā)或者阻止易揮發(fā)性反應(yīng)產(chǎn)物向外散發(fā)，從而可以消除蒸發(fā)散熱所引起的干擾效應(yīng)。

樣品盤工作溫度范圍體積（μL）壓力數(shù)量壓蓋器（密封器）部件編號

不銹鋼盤、盤蓋和O形圈-40°至300°C 60 24巴20 帶有B的B或者帶有的09908467  03190218

不銹鋼盤、盤蓋和O形圈-40°至300°C 6024巴 1000 帶有B的B或者帶有的09908467  03190029

高壓不銹鋼盤、盤蓋和密封帶1-170°至400°C 30 150巴 5B B

高壓鍍金盤和盤蓋1-170°至400°C 30 150巴 5 B B

高壓鈦盤、盤蓋和密封帶2-170°至400°C 30 150巴 5 B B

高容量鋁制樣品盤和盤蓋2-170°至500°C 70 30巴40 N或N N

低容量鋁制樣品盤和盤蓋3-170°至500°C 15 30巴40 N或N N5356003

1本品可重復(fù)使用，包括5個盤和20個鍍金密封片；本品使用替換型密封片（B）

2本品可重復(fù)使用，包括5個盤和20個鈦密封片；本品使用替換型密封片（B）

3電子密封器（N）需要使用密封模具（N）和臺架（N）；本品提供手動密封器

樣品盤和盤蓋

樣品盤工作溫度范圍體積（μL）壓力數(shù)量壓蓋器（密封器）部件編號

?鋁盤和盤蓋-170°至730°C 40 環(huán)境壓力6 不需要N

? 標準銅盤和盤蓋6-170°至730°C 40 環(huán)境壓力

?熱處理鋁盤和盤蓋-170°至600°C 40 環(huán)境壓力100 不需要N

?石墨樣品盤和盤蓋-170°至600°C 40 環(huán)境壓力4 不需要

?金制樣品盤和盤蓋-170°至730°C 40 環(huán)境壓力10 不需要

?  銅制樣品盤4, 5, 6 -170°至800°C 45 環(huán)境壓力200 不需要N

?  大容量鋁制樣品盤2, 3 -170°至600°C 90 環(huán)境壓力200 N或NN

?   陶瓷樣品盤7室溫至1500°C 25 環(huán)境壓力5 不需要N

?   陶瓷樣品盤7室溫至1500°C 55 環(huán)境壓力2 不需要N

?  鉑制樣品盤8-170°至1500°C 45 環(huán)境壓力5 不需要N

?  高容量鉑制樣品盤8-170°至1500°C 95 環(huán)境壓力5 不需要N5356017

1不適用于自動取樣器2沖壓式盤蓋（N）。不適用于DSC自動取樣器，需要壓蓋模具和臺架（N）。

3板式盤蓋（N）4銅篩網(wǎng)式盤蓋（N）5不銹鋼篩網(wǎng)式盤蓋（N）6建議用于OIT試驗7無蓋8板式盤蓋（N）

與DSC 4000、DSC6000、DSC 8000、DSC 8500、Diamond DSC、Pyris 1 DSC、DSC 7、DSC 6、Pyris 6DSC和Jade DSC配合使用與Sapphire DSC配合使用

美國PE消耗品配件現(xiàn)貨優(yōu)惠價格供應(yīng)