準(zhǔn)分子紫外光清洗機(jī)
　　□自主知識產(chǎn)權(quán)，國際前沿光子處理技術(shù)；
　　□國際上玻璃清洗制程的主流技術(shù)；
　　□快速清洗；
　　□低溫大面積加工過程；
　　□開啟和熄滅，節(jié)省工藝時間；
　　□安裝角度靈活方便，操作使用簡單；
　　□電光轉(zhuǎn)化效率高，無廢舊回收問題，；
　　□工件可在大氣中進(jìn)行清洗，便于生產(chǎn)線作業(yè)；
　　□可徹底清除物體表面的碳和污染物；
　　□干式清洗，無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題；
　　□產(chǎn)品的高性和高成品率；
　　□產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致。
　　應(yīng)用領(lǐng)域：
　　主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法為合適。
　　主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。
　　可以去除的污垢：性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
　　技術(shù)參數(shù)：
　　項目          EWC70翻蓋型（Desk　Style）
　　適用工件尺寸          4-12　inches
　　光源配置            1x172　nm    
　　輸出波長        172　nm
　　單燈光強(qiáng)          40　mW/cm2
　　光照均勻度          ？3%（工件旋轉(zhuǎn)時）
　　光照時間設(shè)定          定時器，0-60　min
　　額定功率            70　W
　　功率可變范圍          0-100%
　　燈啟動時間          <1　s        
　　真空反應(yīng)腔          SUS304不銹鋼
　　觀察視窗            KF50視鏡（可選）
　　工件臺            可調(diào)高度，靜止/旋轉(zhuǎn)（可選）
　　工件裝載方式    打開翻蓋，露出工件臺，裝卸工件
　　進(jìn)出氣口        標(biāo)配2個，KF15法蘭接口
　　真空系統(tǒng)配置          機(jī)械泵（可選）
　　真空計（10-1Pa）及接口      KF15法蘭接口
　　臭氧中和器和排氣系統(tǒng)      可選
　　供電電源            230V/50Hz
　　“ON”指示器          有
　　外觀尺寸（長x寬x高）      500x500x400　mm
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