具采用的密封充氣紫外光學(xué)系統(tǒng)和OPI水平觀測等離子光學(xué)接口完成消除水平觀測時(shí)尾焰的影響、全譜CCD技術(shù)和多視角等離子體定位等新技術(shù)，有高靈敏度、高以及波長范圍寬（130nm-770nm）等特性，在ICP-O 領(lǐng)域開拓了的應(yīng)用，可分析包括ppm級鹵素在內(nèi)的73個(gè)金屬和非金屬元素。
　　
　　技術(shù)參數(shù)：
　　1.光譜范圍130－770nm
　　2.三光柵：3600線/mm（2個(gè)），1800線/mm（1個(gè)）
　　3.動態(tài)范圍大于等于8個(gè)數(shù)量級
　　4.可在30秒內(nèi)完成73個(gè)元素的全譜定量測試，分析速度：≥60個(gè)樣品/小時(shí)
　　5.短積分時(shí)間0.1ms，可與HPLC/GC聯(lián)機(jī)使用
　　
　　主要特點(diǎn)：
　　
　　▲一維色散＋32個(gè)CCD檢測器設(shè)計(jì)，檢測器無需溫冷卻，無需氬氣吹掃保護(hù)。
　　▲全波長覆蓋，為130－770nm的波長范圍，可以分析ppm級鹵素。
　　▲密閉充氬循環(huán)光路系統(tǒng)，檢測190nm以下譜線，無需氣體吹掃。
　　▲輕松檢測單晶/多晶硅及金屬硅生產(chǎn)企業(yè)中P（磷）B（硼）等元素。有低檢出限，可彌補(bǔ)ICP-MS不足之處。
　　▲3秒實(shí)現(xiàn)真正全譜數(shù)據(jù)采集，分析速度快。每小時(shí)可分析60個(gè)樣品。
　　▲氣體流量采用質(zhì)量流量計(jì)計(jì)算機(jī)控制，矩管位置3維步進(jìn)馬達(dá)計(jì)算機(jī)控制自動化程度高。