HI84100二氧化硫滴定分析儀的詳細信息

HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
主要性能特點
* 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
* 性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結果。
* 人性化設計，具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。HI84100食品二氧化硫滴定分析儀Sulfur Dioxide  Mini Titrator測量項目技術參數描述測量范圍0 to 400 ppm (mg/L) SO2解析度1 ppm (mg/L)測量讀數的5%測量方法滴定法測量原理等電位氧化還原滴定法樣品取樣量50 mL氧化還原電極類型HI 3148B/50食品專用玻璃復合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C定量泵設置流量設置為：0.5 mL/min磁力攪拌設置攪拌速率設置為：1500 rpm適用環(huán)境0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝電源模式AC230V/60 Hz；10VA尺寸重量主機尺寸：208 x 214 x 163 mm  主機重量：2200 gpH值與游離二氧化硫轉換關系相關項目pH值與游離二氧化硫轉換對應值pH值3.0pH3.1 pH3.2 pH3.3 pH3.4 pH3.5 pH3.6 pH3.7 pH3.8 pH3.9 pH游離二氧化硫（ppm）14182228354455